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一种厚度渐变图案化薄膜的制备方法

专利号:ZL201611011546.2

专利类型:发明授权

发明人:刘雪强; 姜芳

公开(公告)日:2019-4-9

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 刘雪强; 姜芳 公开(公告)日 2019-4-9
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
一种厚度渐变图案化薄膜的制备方法,其主要是:根据要得到的厚度渐变图案利用ANSYS、COMSOL等软件来设计磁场,磁场由永磁体或软磁体构成,然后把放置好永磁体或软磁体的衬底固定在磁控溅射仪器正极的样品台上,使衬底不带磁铁的一面朝向磁性金属靶,把磁性金属靶固定在磁控溅射仪器负极的靶台上,开始溅射,溅射过程中通过观察膜厚仪示数,待显示薄膜厚度达到合适厚度时停止溅射,在衬底上得到图案化厚度分布的金属薄膜。本发明方法可以灵活多变并获得多种图案化的薄膜,薄膜的厚度是无台阶渐变的;同时磁场可以方便的加入到磁控溅射、真空热沉积等薄膜制备工艺中,磁铁可重复利用,操作灵活,简单可靠,成本低廉。

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