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一种锰掺杂单层二硫化钨二维晶体的制备方法

专利号:ZL202010177721.5

专利类型:发明授权

发明人:聂安民; 王冲; 康梦克; 向建勇; 柳忠元; 田永君

公开(公告)日:2021-6-15

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 聂安民; 王冲; 康梦克; 向建勇; 柳忠元; 田永君 公开(公告)日 2021-6-15
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
本发明公开了一种锰掺杂单层二硫化钨二维晶体的制备方法,属于无机半导体纳米材料制备领域。该Mn掺杂单层WS2二维晶体的制备方法为:以MnO2、NaCl、WO3、S为原料,在三温区管式炉里面以Si/SiO2为基底,通过化学气相沉积的方式制备得到Mn掺杂单层WS2二维晶体。本实验室生长的本征WS2形貌多为规则的正三角形,Mn掺杂后的WS2样品的光学图像出现明显的衬度差,并且会有部分不规则的多角形出现。本发明操作简单,成本低廉,对仪器设备要求低,合成的样品化学及热力学稳定性好。所制备的样品在电子、传感器、探测器等光电及稀磁半导体方面有着巨大的应用前景。

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