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一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法

专利号:ZL202110168120.2

专利类型:发明授权

发明人:战再吉; 程庭信; 曹海要

公开(公告)日:2022-2-11

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 战再吉; 程庭信; 曹海要 公开(公告)日 2022-2-11
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
本发明涉及一种(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体及其制备方法,属于高熵化合物材料制备技术领域,所述高熵陶瓷块体为单相面心立方结构的陶瓷,包括以下摩尔比的氮化物:18%~22%的CrN、18%~22%的VN、18%~22%的NbN、18%~22%的TiN、其余为ZrN;所述制备方法包括三个步骤:预合金化陶瓷粉体的制备、高熵陶瓷粉体的制备和高熵陶瓷块体的制备。本发明有效地降低了烧结温度,实现了(CrZrTiNbV)N高熵陶瓷块体的热压烧结,得到具有单相面心立方(FCC)结构的高熵陶瓷,丰富了陶瓷材料体系,制备的高熵陶瓷块体晶粒细小,断裂韧性相比于原料粉体有了显著的提升。

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