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一种异质结双极晶体管及其制备方法

专利号:ZL202010215352.4

专利类型:发明授权

发明人:周春宇; 常晓伟; 王冠宇; 耿欣; 蒋巍; 谭金波

公开(公告)日:2021-3-19

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 周春宇; 常晓伟; 王冠宇; 耿欣; 蒋巍; 谭金波 公开(公告)日 2021-3-19
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
本发明提供一种异质结双极晶体管及其制备方法。本发明的异质结双极晶体管由于发射区和基区具有相同的物理结构,有效的降低了发射区和基区之间的寄生效应,提高了器件的频率特性;发射区宽度90纳米,有效降低了基区的本征电阻;集电区两侧采用嵌入式SiGe结构,在双轴应变的同时引入了单轴应变,将有效的降低载流子在集电区的传输时间,该结构同时减小了有效集电区宽度,降低了集电结电容,进一步提高了器件的频率特性;适当的选择Si帽层的厚度,可以有效降低界面处载流子的堆积,提高器件的增益;同时该双极晶体管的制备方法完全可以和90纳米的CMOS工艺兼容,有效的降低了器件的开发和制作成本。

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