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一种筛选锰基单原子催化剂催化活性的阴离子表面修饰方法

专利号:ZL202210700495.3

专利类型:发明授权

发明人:王静; 李爽; 李志平; 刘倩; 郝奕帆; 李岩

公开(公告)日:2023-3-14

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 王静; 李爽; 李志平; 刘倩; 郝奕帆; 李岩 公开(公告)日 2023-3-14
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
本发明公开了一种筛选锰基单原子催化剂催化活性的阴离子表面修饰方法,包括构建阴离子官能团吸附模型、确定氧还原活性位点、构建氧还原反应关键中间体模型、计算催化活性和构建催化活性火山图,通过原子尺度模型分析,研究阴离子表面修饰对Mn‑N‑C催化剂活性中心的几何构型、离子价态、Bader电荷、态密度、自旋磁矩、氧气吸附能力、氧还原反应中间体吸附能力的影响,建立筛选阴离子官能团修饰提升Mn‑N‑C催化剂氧还原反应催化活性的方法,并筛选出最优的阴离子官能团修饰Mn‑N‑C催化剂。本发明的筛选方法步骤简单,计算快速,结果准确,干扰性小,具有客观性和较高的工作效率,相较于传统的实验筛选方法来说,节省了人工、时间和材料成本。

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